A method of designing an active region pattern with a shifted dummy pattern, wherein an integrated circuit having an original active region pattern thereon is provided. The original active region pattern is expanded with a first parameter of line width to obtain a first pattern. By subtracting the first pattern, a second pattern is obtained. A dummy pattern which comprises an array of a plurality of elements is provided. By shifting the elements, a shifted dummy pattern is obtained. The second pattern and the shifted dummy pattern are combined, so that an overlapped region thereof is extracted as a combined dummy pattern. The combined dummy pattern is expanded with a second parameter of line width, so that a resultant dummy pattern is obtained. The resultant dummy pattern is added to the first pattern, so that the active region pattern with a shifted dummy pattern is obtained.

Eine Methode des Entwerfens eines aktiven Regionmusters mit einem verschobenen blinden Muster, worin eine integrierte Schaltung, die ein ursprüngliches aktives Regionmuster darauf hat, zur Verfügung gestellt wird. Das ursprüngliche aktive Regionmuster wird mit einem ersten Parameter der Linie Breite erweitert, um ein erstes Muster zu erhalten. Indem man das erste Muster subtrahiert, wird ein zweites Muster erhalten. Ein blindes Muster, das eine Reihe von einer Mehrzahl der Elemente enthält, wird zur Verfügung gestellt. Indem man die Elemente verschiebt, wird ein verschobenes blindes Muster erhalten. Das zweite Muster und das verschobene blinde Muster werden kombiniert, damit eine gedeckte Region davon als kombiniertes blindes Muster extrahiert wird. Das kombinierte blinde Muster wird mit einem zweiten Parameter der Linie Breite erweitert, damit ein resultierendes blindes Muster erhalten wird. Das resultierende blinde Muster wird dem ersten Muster hinzugefügt, damit das aktive Regionmuster mit einem verschobenen blinden Muster erhalten wird.

 
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