Proposed is a positive-working chemical-sensitization photoresist
composition having advantages in respect of high resolution of patterning,
high photosensitivity and orthogonal cross sectional profile of the
patterned resist layer as well as in respect of little dependency of the
performance on the nature of the substrate surface. The composition
comprises:
(A) 100 parts by weight of a film-forming hydroxyl-containing resin of a
specified narrow molecular weight distribution substituted by
acid-dissociable groups for a part of the hydroxyl groups which causes an
increase of solubility in an aqueous alkaline solution by the interaction
with an acid; and
(B) from 0.5 to 20 parts by weight of a radiation-sensitive acid-generating
agent which is a disulfone compound represented by the general formula
R.sup.1 --SO.sub.2 --(C.dbd.N.sub.2 ).sub.n --SO.sub.2 --R.sup.2,
in which the subscript n is 0 or 1 and R.sup.1 and R.sup.2 are each,
independently from the other, a monovalent cyclic group selected from the
group consisting of pyridyl group, benzoxazolyl group and aryl groups
substituted by at least one amino group or dialkylamino group, such as
bis(4-pyridylsulfonyl) diazomethane, bis(benzoxazolyl-2-sulfonyl)
diazomethane, bis(4-dimethylaminophenylsulfonyl) diazomethane and
bis(5-dimethylamino-1-naphthyl) disulfone.
Se propone una composición de positivo-trabajo del photoresist de la producto-sensibilizacio'n que tiene ventajas por lo que se refiere a la alta resolución de modelar, alto photosensitivity y el perfil representativo orthogonal del modelado resiste capa así como por lo que se refiere a poca dependencia del funcionamiento en la naturaleza de la superficie del substrato. La composición abarca: (a) 100 porciones en peso de una resina oxhidrilo-que conteni'a filmógena de una distribución estrecha especificada del peso molecular substituyeron por los grupos del a'cido-dissociable para una parte de los grupos del oxhidrilo que causa un aumento de la solubilidad en una solución alcalina acuosa por la interacción con un ácido; y (b) a partir de la 0.5 a 20 porciones en peso de un agente de a'cido-generacio'n sensible a la radiación que es un compuesto del disulfone representó por el fórmula general R.sup.1 -- SO.sub.2 -- (C.dbd.N.sub.2).sub.n -- SO.sub.2 -- R.sup.2, en el cual el subíndice n es 0 o 1 y R.sup.1 y R.sup.2 son cada uno, independientemente del otro, un grupo cíclico monovalente seleccionado del grupo del pyridyl el consistir en el grupo, del grupo del benzoxazolyl y de los grupos del aryl substituidos por por lo menos un grupo amino o el grupo del dialkylamino, tal como bis(4-pyridylsulfonyl) diazomethane, bis(benzoxazolyl-2-sulfonyl) diazomethane, bis(4-dimethylaminophenylsulfonyl) diazomethane y disulfone bis(5-bis(5-dimethylamino-1-naphthyl)-1-naphthyl).
