A method is disclosed for introducing into a chemical vapor deposition chamber precursors of elements to be deposited over a heated substrate. The method comprises the steps of maintaining one or more precursors in liquid form or in solution at a pressure higher than the pressure of the chamber; injecting periodically and under control in the deposition chamber precursor droplets each of the droplets having a controllable volume; volatizing the injected precursor droplets to produce evaporated precursors, and conveying toward the substrate the evaporated precursors at a temperature and pressure of the chamber, whereby the evaporated precursors react to produce the elements deposited onto the substrate. A device for performing the same is also disclosed and includes at least one tank containing precursors in liquid form or in solution; means for maintaining each tank at a pressure higher than the pressure of the chamber; at least one controlled injector associated with each tank and provided with control means for periodically injecting controlled amounts of precursor droplets into the deposition chamber; means for volatizing said injected precursor droplets to produce evaporated precursors, and means for conveying the evaporated precursors to the substrate disposed in the deposition chamber.

Une méthode est révélée pour présenter dans des précurseurs d'une chambre de déposition en phase vapeur d'éléments à être excédent déposé par substrat de chauffage. La méthode comporte les étapes de maintenir un ou plusieurs précurseurs en forme liquide ou en solution à une pression plus élevée que la pression de la chambre ; injection périodiquement et sous la commande dans les gouttelettes de précurseur de chambre de dépôt chacune des gouttelettes ayant un volume contrôlable ; volatizing les gouttelettes injectées de précurseur pour produire a évaporé des précurseurs, et transporter vers le substrat les précurseurs évaporés à une température et à une pression de la chambre, par lequel les précurseurs évaporés réagissent pour produire les éléments déposés sur le substrat. Un dispositif pour exécuter la même chose est également révélé et inclut au moins un réservoir contenant des précurseurs en forme liquide ou en solution ; moyens de maintenir chaque réservoir à une pression plus élevée que la pression de la chambre ; au moins on a commandé l'injecteur lié à chaque réservoir et si avec des moyens de commande d'injecter périodiquement des quantités commandées de gouttelettes de précurseur dans la chambre de dépôt ; les moyens de volatizing ont indiqué les gouttelettes injectées de précurseur pour produire les précurseurs évaporés, et les moyens de transporter les précurseurs évaporés au substrat disposé dans la chambre de dépôt.