The present invention is an apparatus for distributing reactant gases across the substrate mounted in a reaction chamber. The apparatus is capable of being utilized in both vapor deposition and etching processes. The apparatus substantially compensates for the problem of non-uniformity of vapor deposition and etching at the edges of the wafers caused by gas depletion. A gas distribution plate having a plurality of apertures extending therethrough is attached to an interior surface of the reaction chamber. At least one vacuum sealed partition is disposed between a surface of the gas distribution plate and the interior surface of the chamber. The partition separates the space between the plate and reaction chamber into gas distribution zones. A gas inlet is connected to each gas distribution zone. Each gas inlet line has at least one mass flow controller which regulates the flow of gas to each gas distribution zone. The mass flow controllers are utilized to ensure a uniform rate of chemical vapor deposition or etching across the surface of the substrate.

Η παρούσα εφεύρεση είναι μια συσκευή για τα αέρια αντιδραστηρίου πέρα από το υπόστρωμα που τοποθετείται σε μια αίθουσα αντίδρασης. Η συσκευή είναι σε θέση της χρησιμοποίησης και στην απόθεση ατμού και τις διαδικασίες. Η συσκευή αντισταθμίζει ουσιαστικά το πρόβλημα της μη-ομοιομορφίας της απόθεσης και της χαρακτικής ατμού στις άκρες των γκοφρετών που προκαλούνται από αέριο τη μείωση. Ένα αέριο πιάτο διανομής που έχει μια πολλαπλότητα των ανοιγμάτων που επεκτείνεται therethrough είναι συνδεμένο με μια εσωτερική επιφάνεια της αίθουσας αντίδρασης. Τουλάχιστον ένα σφραγισμένο κενό χώρισμα διατίθεται μεταξύ μιας επιφάνειας του αέριο πιάτου διανομής και της εσωτερικής επιφάνειας της αίθουσας. Το χώρισμα χωρίζει το διάστημα μεταξύ του πιάτου και της αίθουσας αντίδρασης αέριο στις ζώνες διανομής. Ένας αέριο κολπίσκος συνδέεται με κάθε αέριο ζώνη διανομής. Κάθε αέριο γραμμή κολπίσκων έχει τουλάχιστον έναν ελεγκτή μαζικής ροής που ρυθμίζει τη ροή αέριο σε κάθε αέριο ζώνη διανομής. Οι ελεγκτές μαζικής ροής χρησιμοποιούνται για να εξασφαλίσουν ένα ομοιόμορφο ποσοστό απόθεσης χημικού ατμού ή χαρακτικής πέρα από την επιφάνεια του υποστρώματος.