An excimer laser with a laser gas containing fluorine in which the fluorine concentration is maintained continuously at or substantially at desired predetermined levels. A real time or substantially real time fluorine monitor provides a feedback signal to a fluorine flow control system which provides continuous fluorine injection flow into the laser chamber to precisely compensate for fluorine depletion and maintain fluorine concentration precisely at desired levels. In a preferred embodiment, fluorine detector which may be a chemical detector periodically measures the fluorine concentration in laser gas discharged from the laser in order to calibrate the real time or substantially real time fluorine monitor. In a second preferred embodiment, the continuous inlet flow is from two gas sources, one containing fluorine, a noble gas and a buffer gas and the other containing only the noble gas and the buffer gas. In a third embodiment, the continuous inlet flow is from a gas source containing fluorine, a noble gas and a buffer gas and filtered gas discharged from the laser.

Un laser d'excimer avec un gaz de laser contenant le fluor en au lequel la concentration en fluor est maintenue sans interruption ou sensiblement aux niveaux prédéterminés désirés. Un temps réel ou un moniteur essentiellement en temps réel de fluor fournit un signal de retour à un système de commande d'écoulement de fluor qui fournit l'écoulement continu d'injection de fluor dans la chambre de laser pour compenser avec précision l'épuisement de fluor et pour maintenir la concentration en fluor avec précision aux niveaux désirés. Dans un mode de réalisation préféré, le détecteur de fluor qui peut être un détecteur chimique mesure périodiquement la concentration en fluor en gaz de laser déchargé du laser afin de calibrer le temps réel ou le moniteur essentiellement en temps réel de fluor. Dans un deuxième a préféré l'incorporation, l'écoulement continu d'admission est de deux sources de gaz, d'un fluor contenant, d'un gaz noble et un gaz d'amortisseur et de l'autre contenant seulement le gaz noble et le gaz d'amortisseur. Dans une troisième incorporation, l'écoulement continu d'admission est d'une source de gaz contenant le fluor, un gaz noble et un gaz d'amortisseur et le gaz filtré déchargé du laser.