Proposed is a novel chemical-sensitization resist composition capable of giving a positively or negatively patterned resist layer of excellent pattern resolution and cross sectional profile of the patterned resist layer with high sensitivity. Characteristically, the resist composition is formulated, as combined with a resinous ingredient which is subject to changes in the solubility behavior in an alkaline developer solution by interaction with an acid, with a specific oximesulfonate compound as the radiation-sensitive acid-generating agent represented by the general formula R.sup.1 --C(CN).dbd.N--O--SO.sub.2 --R.sup.2, in which R.sup.1 is an inert organic group and R.sup.2 is an unsubstituted or substituted polycyclic monovalent hydrocarbon group selected from the group consisting of polycyclic aromatic hydrocarbon groups such as naphthyl and polycyclic non-aromatic hydrocarbon groups such as a terpene or camphor residue.

È proposta una prodotto-sensibilizzazione del romanzo resiste alla composizione capace di dare positivamente o modellato negativamente resista allo strato di risoluzione eccellente del modello ed il profilo rappresentativo del modellato resiste allo strato con l'alta sensibilità. Tipicamente, la composizione in resistenza è formulata, come unito con un ingrediente resinoso che è conforme ai cambiamenti nel comportamento di solubilità in una soluzione di sviluppatore alcalina da interazione con un acido, con un residuo specifico del oximesulfonate come l'agente digenerazione sensibile alla radiazione rappresentato dalla formula generale R.sup.1 -- C(CN).dbd.N -- la O -- SO.sub.2 -- R.sup.2, in cui R.sup.1 è un gruppo e un R.sup.2 organici inerti è un gruppo monovalente policiclico non sostituito o sostituito dell'idrocarburo scelto dal gruppo che consiste dei gruppi policiclici dell'idrocarburo aromatico quale il naftile e dei gruppi non aromatici policiclici dell'idrocarburo quale un residuo della canfora o del terpene.