A transfer robot 2 for holding the peripheral edge of a wafer 1 and transferring the wafer 1, a turning-over alignment section 7 for turning over the wafer 1 and centering the wafer 1, and a transfer robot cleaning section 6 for cleaning holding portions 2a of the transfer robot 2 are provided. Besides, a wafer cleaning section 5 for cleaning the wafer 1 is provided and in this wafer cleaning section 5, a spinner 22 for chucking the wafer 1 and a nozzle 20 through which a cleaning liquid is jetted to this wafer 1. To this nozzle 20, a tank 11 for pure water for supplying pure water, a tank 12 for functional water for supplying a functional water, a tank 13 for chemical liquid for supplying a chemical liquid, and a cleaning liquid mixing portion 14 for storing these various kinds of cleaning liquids and mixing them are connected through supply lines.

Een overdrachtrobot 2 voor het houden van de randrand van een wafeltje 1 en het overbrengen van wafeltje 1, een sectie 7 van de draaien-overschotgroepering voor het omkeren van wafeltje 1 en het centreren van wafeltje 1, en een schoonmakende sectie 6 van de overdrachtrobot voor het schoonmaken holdingsgedeelten 2a wordt van overdrachtrobot 2 verstrekt. Bovendien, een wafeltje schoonmakende sectie 5 voor het schoonmaken van wafeltje 1 wordt verstrekt en in deze wafeltje schoonmakende sectie 5, een spinner 22 voor het gooien van wafeltje 1 en een pijp 20 waardoor een schoonmakende vloeistof gespoten=wordt= aan dit wafeltje 1. Aan deze pijp 20, worden een tank 11 voor zuiver water voor het leveren van zuiver water, een tank 12 voor functioneel water voor het leveren van een functioneel water, een tank 13 voor chemische vloeistof voor het leveren van een chemische vloeistof, en een schoonmakende vloeistof die gedeelte 14 voor het opslaan van deze diverse soorten het schoonmaken van vloeistoffen en het mengen van hen mengt aangesloten door toevoerlijnen.