A method for chemical vapor deposition using a very fine atomization or vaporization of a reagent containing liquid or liquid-like fluid near its supercritical temperature, where the resulting atomized or vaporized solution is entered into a flame or a plasma torch, and a powder is formed or a coating is deposited onto a substrate. The combustion flame can be stable from 10 torr to multiple atmospheres, and provides the energetic environment in which the reagent contained within the fluid can be reacted to form the desired powder or coating material on a substrate. The plasma torch likewise produces the required energy environment, but, unlike the flame, no oxidizer is needed so materials stable in only very low oxygen partial pressures can be formed. Using either the plasma torch or the combustion plasma, coatings can be deposited and powders formed in the open atmosphere without the necessity of a reaction chamber, but a chamber may be used for various reasons including process separation from the environment and pressure regulation.

Un método para la deposición de vapor químico usando una atomización muy fina o la vaporización de un reactivo que contiene el líquido o li'quido-como cercano flúido su temperatura supercrítica, donde la solución atomizada o vaporizada resultar se incorpora en una llama o una antorcha del plasma, y un polvo se forma o una capa se deposita sobre un substrato. La llama de la combustión puede ser estable a partir de 10 torr a las atmósferas múltiples, y proporciona el ambiente enérgio en el cual el reactivo contuvo dentro del líquido se puede reaccionar para formar el polvo deseado o el material de capa en un substrato. La antorcha del plasma produce además el ambiente requerido de la energía, pero, desemejante de la llama, no se necesita ningún oxidante así que los materiales estables en solamente presiones parciales del oxígeno muy bajo pueden ser formados. Usando la antorcha del plasma o el plasma de la combustión, las capas se pueden ser depositadas y los polvos formar en la atmósfera abierta sin la necesidad de un compartimiento de la reacción, pero un compartimiento se puede utilizar por varias razones incluyendo la separación de proceso de la regulación del ambiente y de la presión.