The invention generally relates to various aspects of a plasma process, and more specifically the monitoring of such plasma processes. One aspect relates in at least some manner to calibrating or initializing a plasma monitoring assembly. This type of calibration may be used to address wavelength shifts, intensity shifts, or both associated with optical emissions data obtained on a plasma process. A calibration light may be directed at a window through which optical emissions data is being obtained to determine the effect, if any, that the inner surface of the window is having on the optical emissions data being obtained therethrough, the operation of the optical emissions data gathering device, or both. Another aspect relates in at least some manner to various types of evaluations which may be undertaken of a plasma process which was run, and more typically one which is currently being run, within the processing chamber. Plasma health evaluations and process identification through optical emissions analysis are included in this aspect. Yet another aspect associated with the present invention relates in at least some manner to the endpoint of a plasma process (e.g., plasma recipe, plasma clean, conditioning wafer operation) or discrete/discernible portion thereof (e.g., a plasma step of a multiple step plasma recipe). A final aspect associated with the present invention relates to how one or more of the above-noted aspects may be implemented into a semiconductor fabrication facility, such as the distribution of wafers to a wafer production system.

L'invenzione si riferisce generalmente alle varie funzioni di un processo del plasma e più specificamente del controllo di tali processi del plasma. Una funzione si riferisce almeno in un certo modo alla calibratura o a inizializzare del plasma che controlla il complessivo. Questo tipo di calibratura può essere usato per richiamare gli spostamenti di lunghezza d'onda, gli spostamenti di intensità, o entrambi i collegati con i dati ottici delle emissioni ottenuti su un processo del plasma. Una luce di calibratura può essere diretta ad una finestra attraverso cui i dati ottici delle emissioni stanno ottenendi per determinare l'effetto, all'occorrenza, che la superficie interna della finestra sta avendo sui dati ottici delle emissioni che sono ottenuti perciò, il funzionamento dei dati ottici delle emissioni che riuniscono dispositivo, o entrambe. Un'altra funzione si riferisce almeno in un certo modo ai vari tipi di valutazioni che possono essere intraprese di un processo del plasma che è stato funzionato e di più tipico uno che attualmente sta funzionando, all'interno dell'alloggiamento d'elaborazione. Le valutazioni di salute del plasma e l'identificazione trattata con analisi ottica delle emissioni sono incluse in questa funzione. Ancora un altra funzione si è associata con la presente invenzione si riferisce almeno in un certo modo al punto finale di un processo del plasma (per esempio, ricetta del plasma, funzionamento pulito e di condizionamento del plasma della cialda) o della parte di discrete/discernible di ciò (per esempio, un punto del plasma di una ricetta multipla del plasma di punto). Una funzione finale connessa con la presente invenzione riguarda come uno o più delle funzioni sopra-celebri può essere effettuato in una funzione di montaggio a semiconduttore, quale la distribuzione delle cialde ad un sistema di produzione della cialda.