A method for developing copolymer photosensitive resists wherein a single solvent is used in conjunction with a puddle develop tool. The copolymer resist is ZEP 7000 and the developer is ethyl 3-ethoxy propionate (EEP).

Een methode om fotogevoelig copolymeer te ontwikkelen verzet zich tegen waarin één enkel oplosmiddel samen met een vulklei ontwikkelt hulpmiddel wordt gebruikt. Het copolymeer verzet tegenzich is ZEP 7000 en de ontwikkelaar is ethyl 3-ethoxypropionaat (EEP).