Mn alloy materials for magnetic materials contain 500 ppm or less, preferably 100 ppm or less, oxygen, 100 ppm or less, probably 20 ppm or less, sulfur, and preferably a total of 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, impurities (elements other than Mn and the alloying component). The alloying component that forms an alloy with Mn is one or two or more elements selected from the group consisting of Fe, Ir, Pt, pd, Rh, Ru, Ni, Cr and Co. Sputtering targets formed from the Mn alloy materials for use in depositing magnetic thin film, and the thin films so produced.

Τα υλικά κραμάτων ΜΝ για τα μαγνητικά υλικά περιέχουν 500 PPM ή λιγότερων, κατά προτίμηση 100 PPM ή λιγότερων, οξυγόνο, 100 PPM ή λιγότερων, πιθανώς 20 PPM ή λιγότερων, θείο, και κατά προτίμηση συνολικά 1000 PPM ή λιγότεροι, κατά προτίμηση 500 PPM ή λιγότερων, ακαθαρσίες (στοιχεία εκτός από το ΜΝ και το τμήμα ανάμιξης). Το τμήμα ανάμιξης που διαμορφώνει ένα κράμα με το ΜΝ είναι ένα ή δύο ή περισσότερα στοιχεία που επιλέγονται από την ομάδα που αποτελείται από τους ψεκάζοντας στόχους Φε, IR, PT, pd, rh, RU, Νι, χρωμίου και Co. που διαμορφώνονται από τα υλικά κραμάτων ΜΝ για τη χρήση στην κατάθεση της μαγνητικής λεπτής ταινίας, και τις λεπτές ταινίες παραχθείσες έτσι.