When a glass substrate is conveyed from a processing device group side to an accommodating apparatus, the glass substrate is accommodated to a first accommodating portion corresponding to the layer formed on the glass substrate. When a predetermined number of glass substrates have been accommodated to each accommodating portion, glass substrats accommodated in each accommodating portion corresponding to the layer of the glass substrates are conveyed to an exposing device side. After the exposing device has performed an exposing process for glass substrates, they are successively accommodated to the relevant accommodating portion. In the order of which glass substrates have been conveyed from the processing device group side to the accommodating apparatus, the glass substrates are returned to the processing device side.

Wanneer een glassubstraat van een de groepskant van het verwerkingsapparaat aan een het aanpassen apparaat wordt vervoerd, wordt het glassubstraat aan een eerste het aanpassen gedeelte aangepast dat aan de laag beantwoordt die op het glassubstraat wordt gevormd. Wanneer een vooraf bepaald aantal glassubstraten aan elk het aanpassen gedeelte is aangepast, glas substrats dat in elk het aanpassen gedeelte wordt wordt het aangepast dat aan de laag glassubstraten beantwoordt vervoerd aan een blootstellende apparatenpartij. Nadat het het blootstellen apparaat een blootstellend proces voor glassubstraten heeft uitgevoerd, worden zij opeenvolgend aangepast aan het relevante het aanpassen gedeelte. In de orde waarvan de glassubstraten van de de groepskant van het verwerkingsapparaat aan de het aanpassen apparaten zijn vervoerd, zijn de glassubstraten teruggekomen op de kant van het verwerkingsapparaat.