A developing apparatus comprises a table on which is disposed a substrate having a resist coating film formed thereon, a nozzle for supplying a developing solution to the substrate disposed on the table, a liquid supplying mechanism for supplying the developing solution to the nozzle, and a moving mechanism for relatively moving the nozzle and the substrate, wherein the nozzle includes a liquid inlet port communicating with the liquid supplying mechanism, a liquid reservoir for temporarily storing the developing solution supplied from the liquid supplying mechanism through the liquid inlet port, a narrow passageway communicating with the bottom portion of the liquid reservoir to cause pressure loss of the developing solution coming from the liquid reservoir, a linear liquid discharge section having a discharge port passageway communicating with the narrow passageway, and a buffering member arranged within the discharge port passageway and in the vicinity of the outlet port of the narrow passageway, the buffering member weakening the strength of the developing solution coming out of the narrow passageway so as to weaken the impact given by the developing solution discharged from the discharge port to the resist coating film.

Μια αναπτυσσόμενη συσκευή περιλαμβάνει έναν πίνακα στον οποίο διατίθεται ένα υπόστρωμα που έχει αντιστέκεται στην ταινία επιστρώματος που διαμορφώνονται επ'αυτού, ένα ακροφύσιο για την παροχή μιας αναπτυσσόμενης λύσης στο υπόστρωμα που διατίθεται στον πίνακα, έναν υγρό παρέχοντας μηχανισμό για την αναπτυσσόμενη λύση στο ακροφύσιο, και έναν κινούμενο μηχανισμό για σχετικά το ακροφύσιο και το υπόστρωμα, όπου το ακροφύσιο περιλαμβάνει έναν υγρό λιμένα κολπίσκων επικοινωνώντας με τον υγρό παρέχοντας μηχανισμό, μια υγρή δεξαμενή για προσωρινά να αποθηκεύσει την αναπτυσσόμενη λύση που παρέχεται από τον υγρό παρέχοντας μηχανισμό μέσω του υγρού λιμένα κολπίσκων, ένα στενό πέρασμα που επικοινωνεί με την κατώτατη μερίδα της υγρής δεξαμενής για να προκαλέσει την απώλεια πίεσης της αναπτυσσόμενης λύσης που προέρχεται από το υγρό οατηνγ φηλμ φορμεδ τχερεον, α νοζζλε φορ σuππλυηνγ α δεβελοπηνγ σολuτηον το τχε σuψστρατε δησποσεδ ον τχε ταψλε, α ληquηδ σuππλυηνγ μεθχανησμ φορ σuππλυηνγ τχε δεβελοπηνγ σολuτηον το τχε νοζζλε, ανδ α μοβηνγ μεθχανησμ φορ ρελατηβελυ μοβηνγ τχε νοζζλε ανδ τχε σuψστρατε, ωχερεην τχε νοζζλε ηνθλuδες α ληquηδ ηνλετ πορτ θομμuνηθατηνγ ωητχ τχε ληquηδ σuππλυηνγ μεθχανησμ, α ληquηδ ρεσερβοηρ φορ τεμποραρηλυ στορηνγ τχε δεβελοπηνγ σολuτηον σuππληεδ φρομ τχε ληquηδ σuππλυηνγ μεθχανησμ τχροuγχ τχε ληquηδ ηνλετ πορτ, α ναρροω πασσαγεωαυ θομμuνηθατηνγ ωητχ τχε ψοττομ πορτηον οφ τχε ληquηδ ρεσερβοηρ το θαuσε πρεσσuρε λοσς οφ τχε δεβελοπηνγ σολuτηον θομηνγ φρομ τχε ληquηδ ρεσερβοηρ, α ληνεαρ ληquηδ δησθχαργε το τμήμα που έχουν ένα πέρασμα λιμένων απαλλαγής που επικοινωνεί με το στενό πέρασμα, και ένα αποθηκεύοντας μέλος που τακτοποιείται μέσα στο πέρασμα λιμένων απαλλαγής και κοντά στο λιμένα εξόδου του στενού περάσματος, το αποθηκεύοντας μέλος που αποδυναμώνει τη δύναμη της αναπτυσσόμενης λύσης που βγαίνει από το στενό πέρασμα ώστε να αποδυναμωθεί ο αντίκτυπος που δίνεται από την αναπτυσσόμενη λύση που απαλλάσσεται από το λιμένα απαλλαγής αντιστέκονται στην ταινία επιστρώματος.