An yttrium film is formed on the surface of a substrate made of an Ni--Cr-based material by deposition or sputtering using resistance heating or an electron beam. The yttrium film is heated in an inert gas atmosphere containing a very small amount of hydrogen to hydrogenate yttrium. The resultant yttrium hydride is excellent as a cold emission material for a cold emission electrode and can be used for a cold emission discharge fluorescent tube.

Una película del itrio se forma en la superficie de un substrato hecho de un Ni -- material Cr-basado por la deposición o farfulla usando la calefacción de la resistencia o un haz electrónico. La película del itrio se calienta en una atmósfera del gas inerte que contiene una cantidad muy pequeña de hidrógeno para hidrogenar el itrio. El hidruro resultante del itrio es excelente como material frío de la emisión para un electrodo frío de la emisión y se puede utilizar para un tubo fluorescente de la descarga fría de la emisión.