In an electroluminescent lamp in which a transparent electrode, a light-emitting film, a reflective insulation layer, a reverse side electrode, and an outside insulation film are laminated onto the inside surface of a transparent film, a reduced-pressure process such as sputtering, electron beam deposition, or CVD is used to form a transparent auxiliary electrode thin film on the outside (light-emitting surface side) of the transparent film, this transparent auxiliary electrode thin film being grounded.

Em uma lâmpada eletroluminescente em que um elétrodo transparente, uma película light-emitting, uma camada reflexiva da isolação, um elétrodo do lado reverso, e uma película exterior da isolação são laminados na superfície interior de uma película transparente, um processo reduced-pressure tal como sputtering, o deposition do feixe de elétron, ou o CVD são usados dar forma a uma película fina do elétrodo auxiliar transparente na parte externa (lado de superfície light-emitting) da película transparente, esta película fina do elétrodo auxiliar transparente que está sendo aterrada.