A processing station adaptable to standard cluster tools has a vertically-translatable pedestal having an upper wafer-support surface including a heater plate adapted to be plugged into a unique feedthrough in the pedestal. At a lower position for the pedestal wafers may be transferred to and from the processing station, and at an upper position for the pedestal the pedestal forms an annular pumping passage with a lower circular opening in a processing chamber. A removable, replaceable ring at the lower opening of the processing chamber allows process pumping speed to be tailored for different processes by replacing the ring. In some embodiments the pedestal also has a surrounding shroud defining an annular pumping passage around the pedestal. A unique two-zone heater plate is adapted to the top of the pedestal, and connects to a unique feedthrough allowing heater plates to be quickly and simply replaced. In some embodiments the top of the processing chamber is removable allowing users to remove either pedestals or heater assemblies. Or both, through the open top of a processing station. In preferred embodiments the system is adapted to atomic layer deposition processing.

Uma estação processando adaptable às ferramentas padrão do conjunto tem um suporte vertical-vertically-translatable ter um superior wafer-suporta a superfície including uma placa do calefator adaptada para plugged em um feedthrough original no suporte. Em uma posição mais baixa para o suporte os wafers podem ser transferidos a e da estação processando, e em uma posição superior para o suporte o suporte dá forma a uma passagem bombeando anular com uma abertura circular mais baixa em uma câmara processando. Um anel removível, substituível na abertura mais baixa da câmara processando permite que a velocidade bombeando do processo seja costurada para processos diferentes substituindo o anel. Em algumas incorporações o suporte tem também uma saia circunvizinha definir uma passagem bombeando anular em torno do suporte. Uma placa original do calefator da dois-zona é adaptada ao alto do suporte, e conecta a um feedthrough original permitindo que as placas do calefator sejam rapidamente e substituiu simplesmente. Em algumas incorporações o alto da câmara processando é removível permitindo que os usuários removam os suportes ou os conjuntos do calefator. Ou ambos, através do alto aberto de uma estação processando. Em incorporações preferidas o sistema é adaptado a processar atômico do deposition da camada.