The present invention relates to an apparatus for creating a pattern on a
workpiece, such as a photomask, a semiconductor wafer, an electronic
interconnect device, a printed circuit board, a display panel, a
microoptical device or a printing plate, whereby a pattern with less
visible edges is created. The apparatus comprises a source for emitting
light pulses, a spatial modulator (SLM) having several pixels, a
projection system, an electronic data delivery system, and a precision
mechanical system moving said workpiece relative to said projection
system. Further, it comprises an electronic control system coordinating
the workpiece, the modulator and light sources, so that a large pattern is
stitched together from the partial images created by the sequence of
radiation pulses, where adjacent images being stitched together are
overlapping at the common boundary, and the overlapping images have
essentially the same pattern in the overlap region and a reduced light
intensity.
Η παρούσα εφεύρεση αφορά μια συσκευή για ένα σχέδιο σε ένα κομμάτι προς κατεργασία, όπως ένα photomask, μια γκοφρέτα ημιαγωγών, μια ηλεκτρονική συσκευή διασύνδεσης, ένας τυπωμένος πίνακας κυκλωμάτων, μια επιτροπή επίδειξης, μια μικρο-οπτική συσκευή ή ένα πιάτο εκτύπωσης, με το οποίο ένα σχέδιο με τις λιγότερες ορατές άκρες δημιουργείται. Η συσκευή περιλαμβάνει μια πηγή για την εκπομπή των ελαφριών σφυγμών, ενός χωρικού διαμορφωτή (SLM) που έχουν διάφορα εικονοκύτταρα, ενός συστήματος προβολής, ενός συστήματος παράδοσης ηλεκτρονικών στοιχείων, και ενός μηχανικού συστήματος ακρίβειας που κινεί το εν λόγω κομμάτι προς κατεργασία σχετικά με το εν λόγω σύστημα προβολής. Περαιτέρω, περιλαμβάνει ένα ηλεκτρονικό σύστημα ελέγχου που συντονίζει το κομμάτι προς κατεργασία, ο διαμορφωτής και οι πηγές φωτός, έτσι ώστε ένα μεγάλο σχέδιο είναι ραμμένο μαζί από τις μερικές εικόνες που δημιουργούνται από την ακολουθία σφυγμών ακτινοβολίας, όπου οι παρακείμενες εικόνες που ράβονται μαζί επικαλύπτουν στο κοινό όριο, και οι επικαλύπτοντας εικόνες έχουν ουσιαστικά το ίδιο σχέδιο στην περιοχή επικάλυψης και μια μειωμένη ελαφριά ένταση.
