A method for producing co-planar surface areas is disclosed. At first a first layer with at least one recess is provided. Onto the first layer a second layer is deposited over the entire area of the first layer wherein the second layer has a thickness greater than the depth of the recess. The second layer is composed of material different to the material of the first layer. The next step removes the second layer completely beyond the area of at least one recess. The remaining portion of the second layer is removed until the second layer is coplanar with the first layer.

Um método para produzir áreas de superfície co-planar é divulgado. Em uma primeira camada com ao menos um rebaixo é fornecido início. Na primeira camada um a segunda camada é depositado sobre a área inteira da primeira camada wherein a segunda camada tem uma espessura mais grande do que a profundidade do rebaixo. A segunda camada é composta do material diferente ao material da primeira camada. A etapa seguinte remove a segunda camada completamente além da área ao menos de um rebaixo. A parcela restante da segunda camada é removida até que a segunda camada esteja coplanar com a primeira camada.