An aluminum film is formed as a photoreflective electrode in the side opposite to the light incident side of a solar cell by sputtering at a substrate temperature of 50.degree. to 200.degree. C. using a target, aluminum containing silicon as an impurity element at 0.1 to 6.0 weight %. An aluminum film or a silver film into which an impurity element is not added is formed on the above aluminum film, to obtain a texture structure having convex and concave shapes. When an organic resin film substrate is used, components (released as a gas by heating and a vacuum atmosphere) such as water within the organic resin film is removed after the aluminum film is formed.

Een aluminiumfilm wordt gevormd als photoreflective elektrode in de kant tegengesteld aan de lichte inherente kant van een zonnecel door bij een substraattemperatuur van 50.degree. aan 200.degree. C. te sputteren gebruikend een doel, aluminium dat silicium bevat als onzuiverheidselement bij 0,1 tot 6,0 gewicht %. een aluminiumfilm of een zilveren film waarin een onzuiverheidselement niet wordt toegevoegd wordt gevormd op de bovengenoemde aluminiumfilm, om een textuurstructuur te verkrijgen die convexe en concave vormen heeft. Wanneer een organisch substraat van de harsfilm wordt gebruikt, componenten (die als gas door het verwarmen en een vacuümatmosfeer worden wordt de vrijgegeven) zoals water binnen de organische harsfilm verwijderd nadat de aluminiumfilm wordt gevormd.