A method of manufacturing an LCD on a substrate, the method comprising the steps of forming a thin film transistor on the substrate; forming an organic passivation layer over the thin film transistor; forming a patterned photoresist over the organic passivation layer; etching the organic passivation layer to form a contact hole over one of source and drain of the transistor; removing the photoresist; forming an SiO.sub.2 layer at a surface of the organic passivation layer by O.sub.2 ashing; and forming a pixel electrode contacting one of the source and drain of the transistor through the contact hole.

Μια μέθοδος ένα LCD σε ένα υπόστρωμα, η μέθοδος περιλαμβάνοντας τα βήματα της διαμόρφωσης μιας κρυσταλλολυχνίας λεπτών ταινιών στο υπόστρωμα διαμόρφωση ενός οργανικού στρώματος παθητικότητας πέρα από την κρυσταλλολυχνία λεπτών ταινιών διαμόρφωση διαμορφωμένου photoresist πέρα από το οργανικό στρώμα παθητικότητας χάραξη του οργανικού στρώματος παθητικότητας για να διαμορφώσει μια τρύπα επαφών πέρα από μια από την πηγή και τον αγωγό της κρυσταλλολυχνίας αφαίρεση photoresist διαμόρφωση ενός στρώματος SiO.sub.2 σε μια επιφάνεια του οργανικού στρώματος παθητικότητας με O.sub.2 την αποτέφρωση και διαμορφώνοντας ένα ηλεκτρόδιο εικονοκυττάρου που έρχεται σε επαφή με μια από την πηγή και τον αγωγό της κρυσταλλολυχνίας μέσω της τρύπας επαφών.