A photoresist coater has a rotatable chuck to support a substrate, a source of photoresist, a pivotable dispensing arm extendable over the chuck, and a nozzle at the end of the dispensing arm. The nozzle has an aperture with a dimension sufficiently small that photoresist directed therethrough forms an aerosol which is directed onto the substrate.

Photoresist coater heeft een draaibare klem om een substraat, een bron van photoresist, een pivotable het uitdelen wapen verlengbaar over de klem, en een pijp aan het eind van het het uitdelen wapen te steunen. De pijp heeft een opening met een voldoende kleine afmeting dat photoresist vormt daardoor een aërosol leidde dat op het substraat wordt geleid.