A composition is derived from an addition polymerizable organotitanium polymer which upon exposure to an oxygen plasma or baking in air, is converted to titanium dioxide (titania) or is converted to a mixed, titanium-containing metal oxide. The metal oxide formed in situ imparts etch-resistant action to a patterned photoresist layer. The composition may also be directly deposited and patterned into permanent metal oxide device features by a photolithographic process.

Een samenstelling wordt afgeleid uit een polymeer van toevoegings polymerizable organotitanium dat op blootstelling aan een zuurstofplasma of baksel in lucht, in titaniumdioxyde (titania) in gemengd wordt omgezet of omgezet, titanium-bevattend metaaloxyde. Het ter plaatse gevormde metaaloxyde verleent etsen-bestand actie aan een gevormde photoresist laag. De samenstelling kan ook direct en in het permanente apparaat van het metaaloxyde eigenschappen worden gevormd door een photolithographic proces worden gedeponeerd.