This invention relates to an optical exposure system that is useful for exposing optical alignment layers with light in order to align liquid crystal. The exposure system comprises at least one source of optical radiation, means for partially collimating the optical radiation, means for partially polarizing the optical radiation, means for adjusting the degree of polarization, and means for transporting a substrate and radiation relative to one another. Other embodiments include means for partially filtering the optical radiation and means for some portion of said optical radiation to be incident at an oblique angle relative to the substrate. Another embodiment is a novel optical module and processes for aligning liquid crystals using the optical exposure systems.

Esta invenção relaciona-se a um sistema ótico da exposição que seja útil para expo camadas óticas do alinhamento com luz a fim alinhar o cristal líquido. O sistema da exposição compreende ao menos uma fonte da radiação ótica, dos meios para parcialmente collimating a radiação ótica, dos meios para parcialmente polarizar a radiação ótica, dos meios para ajustar o grau de polarization, e dos meios para transportar uma carcaça e uma radiação relativo a uma outra. Outras incorporações incluem meios para parcialmente filtrar a radiação ótica e meios para alguma parcela de radiação ótica dita ser incident em um ângulo oblique relativo à carcaça. Uma outra incorporação é um módulo ótico e processos da novela para alinhar cristais líquidos usando os sistemas óticos da exposição.