An optical electronic integrated circuit (OEIC) having optical waveguides as device interconnects. An optical waveguide is formed by depositing, in an oxygen-free atmosphere, a film of semiconductor material on a semiconductor substrate at a temperature that substantially diminishes the porosity of the film and the diffusion of material from the substrate into the film. The semiconductor film, which has an index of refraction greater than that of the substrate, is etched to form the optical waveguide on the substrate. The substrate also supports a plurality of active optical devices between which the optical waveguide extends. The substrate is preferably formed from gallium-arsenide and the waveguide from germanium. The active devices may also include these materials as well as aluminum-gallium-arsenide.

Um circuito integrado eletrônico ótico (OEIC) que tem os waveguides óticos como o dispositivo interconecta. Um waveguide ótico é dado forma depositar, em uma atmosfera oxygen-free, por uma película do material do semicondutor em uma carcaça do semicondutor em uma temperatura que diminua substancialmente a porosidade da película e a difusão do material da carcaça na película. A película do semicondutor, que tem um índice de refraction mais grande do que aquele da carcaça, é gravada para dar forma ao waveguide ótico na carcaça. A carcaça suporta também um plurality dos dispositivos óticos ativos entre que o waveguide ótico estende. A carcaça é dada forma preferivelmente do gallium-arsenieto e do waveguide do germânio. Os dispositivos ativos podem também incluir estes materiais as.well.as o alumínio-gallium-arsenieto.