A process flow for forming a pixel cell for a light valve implements the furnace alloy/sintering step prior to deposition of the reflective metal layer from which the active pixel electrodes are to be formed. In this manner, the active pixel electrodes are spared loss of reflectance associated with prolonged exposure to high temperatures of the furnace alloy/sintering step. Adequate suppression of surface state charges created after the furnace alloy/sintering is ensured by performing a rapid thermal anneal at the conclusion of the process flow.

Μια ροή διαδικασίας για τη διαμόρφωση ενός κυττάρου εικονοκυττάρου για μια ελαφριά βαλβίδα εφαρμόζει το κράμα φούρνων/το συμπυκνώνοντας βήμα πριν από την απόθεση του αντανακλαστικού στρώματος μετάλλων από το οποίο τα ενεργά ηλεκτρόδια εικονοκυττάρου πρόκειται να διαμορφωθούν. Με αυτόν τον τρόπο, τα ενεργά ηλεκτρόδια εικονοκυττάρου διαθέτονται την απώλεια συντελεστή ανάκλασης που συνδέεται με την παρατεταμένη έκθεση στις υψηλές θερμοκρασίες του κράματος φούρνων/του συμπυκνώνοντας βήματος. Η επαρκής καταστολή των κρατικών δαπανών επιφάνειας που δημιουργούνται μετά από το κράμα φούρνων/συμπύκνωση εξασφαλίζεται με την εκτέλεση γρήγορου έναν θερμικού ανοπτεί στο συμπέρασμα της ροής διαδικασίας.