A moire pattern technology about a dot matrix hologram for hiding a moire pattern is invented. In the moire pattern hidden region of a dot matrix hologram, the moire pattern foreground area and the moire pattern background area are formed identically by interlacing bright lines and dark lines. While position shifting is formed between the lines of the two areas. This position shifting is several times of the size of the grating dots. Thus, a moire pattern hidden in the moire pattern hidden region without being processed specially has a poor hiding ability. Often the above moire pattern can be identified by eyes directly without using a decoding film. Therefore, such kinds of moire patterns have poor hidden effects. However, the moire pattern of the present invention can prevent the aforesaid phenomenon by a well designed pretended pattern. Moreover, the appearance of such a dot matrix hologram can be beautified by the addition of the pretended patern. Furthermore, in the present invention, a technology of one-dimensional moire patterns is upgraded to a technology of two-dimensional moire patterns.

Una tecnología del patrón del muaré sobre un holograma de la matriz de punto para ocultar un patrón del muaré se inventa. En el patrón del muaré la región ocultada de un holograma de la matriz de punto, el área del primero plano del patrón del muaré y el área de fondo del patrón del muaré son formadas idénticamente por las líneas brillantes del entrelazamiento y las líneas oscuras. Mientras que el cambiar de puesto de la posición se forma entre las líneas de las dos áreas. El este cambiar de puesto de la posición es varias veces del tamaño de los puntos grating. Así, un patrón del muaré ocultado en la región ocultada patrón del muaré sin el proceso especialmente tiene una capacidad que oculta pobre. El patrón antedicho del muaré se puede identificar a menudo por los ojos directamente sin usar una película el descifrar. Por lo tanto, tales clases de patrones del muaré tienen efectos ocultados pobres. Sin embargo, el patrón del muaré de la actual invención puede prevenir el fenómeno antedicho por un patrón fingido diseñado pozo. Por otra parte, el aspecto de tal holograma de la matriz de punto se puede beautified por la adición del patern fingida. Además, en la actual invención, una tecnología de los patrones unidimensionales del muaré se aumenta a una tecnología de los patrones de dos dimensiones del muaré.