A chemical mechanical polishing slurry precursor comprising urea, a second oxidizer, an organic acid, and an abrasive, and a method for using the chemical mechanical polishing slurry precursor to prepare a chemical mechanical polishing slurry with a first oxidizer and thereafter using the slurry to remove titanium, titanium nitride, and an aluminum alloy containing layers from a substrate.

Un précurseur de polissage mécanique chimique de boue comportant l'urée, un deuxième oxydant, un acide organique, et un abrasif, et une méthode pour employer le précurseur de polissage mécanique chimique de boue pour préparer une boue de polissage mécanique chimique avec du premier oxydant et ensuite l'usage de la boue pour enlever le titane, la nitrure titanique, et un alliage d'aluminium contenant des couches d'un substrat.