A method of depositing a thin film of metal oxide by a magnetron sputtering apparatus with a mobile magnet for creating a magnetic field reciprocating across a film deposition region, is characterized in that the magnet reciprocates no more than twice in depositing a single thin film of metal oxide.

Eine Methode des Niederlegens eines Dünnfilms des Metalloxids durch einen Magnetronspritzenapparat mit einem beweglichen Magneten für das Verursachen ein magnetisches fangen das Austauschen über einer Filmabsetzungregion, wird gekennzeichnet dadurch auf, daß der Magnet nicht mehr als zweimal austauscht, wenn er einen einzelnen Dünnfilm des Metalloxids niederlegt.