Processing methods and systems using vapor phase processing streams made from a liquid phase source and feed gas. Some versions use multiple liquid sources and multiple vapor generators which each produce vapors which are mixed. Some of the vapor generators use metering pumps to inject a controlled flow of liquid into a controlled flow of feed gas. In some embodiments the vapors are exsiccated to reduce saturation before being introduced as a processing chamber vapor mixture into a processing chamber. The semiconductor pieces are preferably rotated within the processing chamber and can be processed in batches.

Verwerkingsprocédés en de systemen die de verwerkingsstromen de gebruiken van de dampfase maakten van een vloeibaar van het fase bron en voer gas. Sommige versies gebruiken veelvoudige vloeibare bronnen en veelvoudige dampgenerators die elke opbrengsdampen die worden gemengd. Enkele dampgenerators gebruiken metende pompen om een gecontroleerde stroom in te spuiten van vloeistof in een gecontroleerde stroom van voergas. In sommige belichamingen de dampen zijn exsiccated om verzadiging te verminderen alvorens wordt geïntroduceerd als de dampmengsel van de verwerkingskamer in een verwerkingskamer. De halfgeleiderstukken worden bij voorkeur geroteerd binnen de verwerkingskamer en kunnen in partijen worden verwerkt.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Process for the preparation of S(.omega.-aminoalkylamino) alkyl aryl sulfide dihydrochlorides

> Copper alloy electroplating bath for microelectronic applications

> (none)

~ 00020