An improved, aqueous base developable, high resolution photoresist composition for use in deep UV and compatable with high base strength aqueous developers is disclosed. The composition of the present invention comprises of a phenolic functional methacrylate polymer resin, a crosslinker selected from glycoluril derivatives capable of reacting with there resins under acid catalysis, a photoacid generator and an organic solvent. The composition of the present invention is particularly useful for production of negative tone images of high resolution (less than 0.125 micrometer).

Una composizione developable e di alta risoluzione bassa migliorata e acquosa nel photoresist per uso in UV e compatable profondi con gli sviluppatori acquosi di alta resistenza bassa è rilevata. La composizione di presente invenzione contiene una resina funzionale fenolica del polimero del metacrilato, un crosslinker scelto dai derivati del glycoluril capaci di reazione con là le resine sotto la catalisi acida, un generatore del photoacid e un solvente organico. La composizione di presente invenzione è particolarmente utile per produzione delle immagini negative di tono dell'alta risoluzione (più meno di 0.125 micrometri).