A lift and rotate assembly for use in a workpiece processing station. The lift and rotate assembly includes a body having a slim profile and pins located on opposite sides for mounting the assembly onto a tool frame. The lift and rotating assembly further includes a rotating mechanism coupling a processing head to the body, and for rotating the process head with respect to the body. The rotating mechanism includes a motor, wherein the motor is located within the processing head and the shaft of the motor is coupled to and rotationally fixed with respect to the body. The lift and rotate assembly further includes a lift mechanism for lifting the process head with respect to the body. A cable assembly within the lift and rotate assembly includes a common cable loop for feeding additional length of cable along both the lift direction and the rotational direction of movement.

Ένας ανελκυστήρας και περιστρέφεται τη συνέλευση για τη χρήση σε έναν σταθμό επεξεργασίας κομματιών προς κατεργασία. Ο ανελκυστήρας και περιστρέφεται τη συνέλευση περιλαμβάνει ένα σώμα που έχει ένα λεπτό σχεδιάγραμμα και τις καρφίτσες στις αντίθετες πλευρές για να τοποθετήσει τη συνέλευση επάνω σε ένα πλαίσιο εργαλείων. Ο ανελκυστήρας και η περιστρεφόμενη συνέλευση περιλαμβάνουν περαιτέρω έναν περιστρεφόμενο μηχανισμό συνδέοντας ένα κεφάλι επεξεργασίας με το σώμα, και για την περιστροφή του κεφαλιού διαδικασίας όσον αφορά το σώμα. Ο περιστρεφόμενος μηχανισμός περιλαμβάνει μια μηχανή, όπου η μηχανή βρίσκεται μέσα στο κεφάλι επεξεργασίας και ο άξονας της μηχανής συνδέεται με και καθορίζεται rotationally όσον αφορά το σώμα. Ο ανελκυστήρας και περιστρέφεται τη συνέλευση περιλαμβάνει περαιτέρω έναν μηχανισμό ανελκυστήρων για το κεφάλι διαδικασίας όσον αφορά το σώμα. Μια συνέλευση καλωδίων μέσα στον ανελκυστήρα και περιστρέφεται τη συνέλευση περιλαμβάνει έναν κοινό βρόχο καλωδίων για το πρόσθετο μήκος σίτισης του καλωδίου και κατά μήκος της κατεύθυνσης ανελκυστήρων και κατά μήκος της περιστροφικής κατεύθυνσης της μετακίνησης.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Electroplating reactor including back-side electrical contact apparatus

> Cathode current control system for a wafer electroplating apparatus

> (none)

~ 00021