A polishing application uses alkali, colloidal silica for polishing silicate-based glasses. Preferably, the silica solutions are adjusted to a pH of or above 10. The polished silicate-based glass surfaces have surface finishes consistently below 2 .ANG. Ra. The unique method first polishes a surface of the substrate with an aqueous solution of at least one metal oxide abrasive and further polishes the surface of the substrate with an alkali aqueous solution of colloidal silica. Preferably, to the final smoothness of 2 .ANG. Ra or less.

Eine Polieranwendung benutzt Alkali, kolloidales Silikon für das Polieren der Kieselsäureverbindung-gegründeten Gläser. Vorzugsweise werden die Silikonlösungen auf einen pH von oder über 10 justiert. Die polierten Kieselsäureverbindung-gegründeten Glasoberflächen haben Oberflächenende durchweg unterhalb ANG 2. Ra. Die einzigartige Methode poliert zuerst eine Oberfläche des Substrates mit einer wässerigen Lösung von mindestens einem abschleifenden Metalloxid und poliert weiter die Oberfläche des Substrates mit einer wässerigen Lösung des Alkalis des kolloidalen Silikons. Vorzugsweise zur abschließenden Glattheit von ANG 2. Ra oder kleiner.