A method of cleaning a substrate 5 to remove etchant residue 10 formed during etching of the substrate, the method comprising the step of exposing the substrate in a process zone 135, to an activated cleaning gas comprising halogen-substituted saturated hydrocarbon gas, oxygen gas, and nitrogen gas.

Метод очищать субстрат 5 для того чтобы извлечь etchant выпарку 10 сформировал во время вытравливания субстрата, метода состоя из шага подвергать действию субстрат в отростчатой зоне 135, к активированному очищая газу состоя из галоид-zamenennogo насыщенного газа углерода, газа кислорода, и газа азота.