A CVD apparatus is provided, which is capable of cleaning the inside of a reaction chamber without affecting a catalyzer member after a CVD process is completed. This apparatus is comprised of a reaction chamber; a substrate stage located in the chamber, a substrate being placed on the stage; a catalyzer holder located in the chamber for holding a catalyzer member; the holder having an inner space in which the catalyzer member is fixed; the holder having an opening that communicates with the inner space and that faces toward the substrate placed on the stage; a shutter located in the chamber for closing the opening of the holder; a cleaning device for cleaning an inside of the chamber after a CVD process is completed; and a gas supply line for supplying a source gas into the inner space of the holder. When a film is formed on the substrate, the source gas is supplied into the inner space of the holder to generate an active species due to a catalysis of the catalyzer member, and the active species is supplied to the substrate placed on the stage through the opening of the holder. When the inside of the chamber is cleaned by the cleaning device, the substrate is taken out of the chamber and the opening of the holder is closed by the shutter, separating the catalyzer member located in the holder from an outside atmosphere of the holder.

Een apparaat van CVD wordt verstrekt, dat de binnenkant van een reactiekamer kan schoonmaken zonder een catalyzer lid te beïnvloeden nadat een proces van CVD wordt voltooid. Dit apparaat wordt samengesteld van een reactiekamer; een substraatstadium dat in de kamer, een substraat wordt gevestigd dat op het stadium wordt geplaatst; een catalyzer houder bepaalde van in de kamer voor het houden van een catalyzer lid de plaats; de houder die een binnenruimte heeft waarin het catalyzer lid wordt bevestigd; de houder die het openen heeft die met de binnenruimte communiceert en die de gezichten naar het substraat op het stadium plaatsten; een blind dat in de kamer voor het sluiten van het openen van de houder wordt gevestigd; een schoonmakend apparaat om een binnenkant van de kamer na een proces van CVD wordt schoon te maken voltooid; en een gastoevoerlijn voor het leveren van een brongas in de binnenruimte van de houder. Wanneer een film op het substraat wordt gevormd, wordt het brongas geleverd in de binnenruimte van de houder om een actieve soort te produceren toe te schrijven aan een katalyse van het catalyzer lid, en de actieve soort wordt geleverd aan het substraat dat op het stadium door het openen van de houder wordt geplaatst. Wanneer de binnenkant van de kamer door het schoonmakende apparaat wordt schoongemaakt, wordt het substraat genomen uit de kamer en het openen van de houder wordt gesloten door het blind, dat het catalyzer lid scheidt dat in de houder wordt gevestigd van een buitenatmosfeer van de houder.