A method is provided for forming a patterned layer of resistive material in
electrical contact with a layer of electrically conducting material. A
three-layer structure is formed which comprises a metal conductive layer,
an intermediate layer formed of material which is degradable by a chemical
etchant, and a layer of resistive material of sufficient porosity such
that the chemical etchant for said intermediate layer may seep through the
resistive material and chemically degrade said intermediate layer so that
the resistive material may be ablated from said conductive layer wherever
the intermediate layer is chemically degraded. A patterned photoresist
layer is formed on the resistive material layer. The resistive material
layer is exposed to the chemical etchant for said intermediate layer so
that the etchant seeps through the porous resistive material layer and
degrades the intermediate layer. Then, portions of the resistive material
layer are ablated away wherever the intermediate layer has been degraded.
Un metodo è fornito per formare uno strato modellato di materiale resistente in contatto elettrico uno strato di materiale elettricamente di condotta. Una struttura di tre-strato è formata che contiene uno strato conduttivo del metallo, uno strato intermedio formato di materiale che è degradabile da un etchant chimico e uno strato di materiale resistente di porosità sufficiente tali che il prodotto chimico etchant per lo strato intermedio detto può filtrarsi attraverso il materiale resistente e chimicamente degradare lo strato intermedio detto in moda da potere rimuovere il materiale resistente dallo strato conduttivo detto laddove lo strato intermedio chimicamente è degradato. Uno strato di photoresist modellato è formato sullo strato materiale resistente. Lo strato materiale resistente è esposto al prodotto chimico etchant per lo strato intermedio detto in modo che il etchant si filtri con lo strato materiale resistente poroso e degradi lo strato intermedio. Allora, le parti dello strato materiale resistente sono rimosse via dovunque lo strato intermedio sia stato degradato.
