A multi-layer sputter deposition chamber or cluster tool module is described. The sputter deposition chamber includes a plurality of magnetrons mounted on a rotatable member that defines an aperture. A predetermined one of the plurality of magnetrons is positionable proximate to a substrate in the sputter deposition chamber. A transport mechanism transports the substrate in a path of the sputtered ions in a first and a second direction that is substantially opposite to the first direction.

Ein mehrschichtiges spritzen Absetzungraum, oder Blockwerkzeugmodul wird beschrieben. Der spritzenabsetzungraum schließt eine Mehrzahl der Magnetrons ein, die an einem drehbaren Mitglied angebracht werden, das eine Blendenöffnung definiert. Vorbestimmtes der Mehrzahl der Magnetrons ist zu einem Substrat im spritzenabsetzungraum positionable nächstes. Eine Transporteinheit transportiert das Substrat in einem Weg der gespritzten Ionen in einem erstem und der zweiten Richtung, die im wesentlichen gegenüber der ersten Richtung ist.