An apparatus for cleaning a substrate includes a source of pressurized carrier gas and a body of cleaning agent in liquid form. A first conduit directs the pressurized carrier gas from the carrier gas source to the body of cleaning agent. A second conduit carries a flow of the carrier gas away from the body of the cleaning agent. The carrier gas flow carried by the second conduit includes cleaning agent in vapor form acquired from the body of cleaning agent. A nozzle is coupled to the second conduit to cause droplets of the cleaning agent to impinge upon a first face of the substrate to be cleaned.

Een apparaat om een substraat schoon te maken omvat een bron van onder druk gezet draaggas en een lichaam van schoonmakende agent in vloeibare vorm. Een eerste buis leidt het onder druk gezette draaggas uit de draaggasbron aan het lichaam van schoonmakende agent. Een tweede buis draagt een stroom van het draaggas vanaf het lichaam van de schoonmakende agent. De draaggasstroom die door de tweede buis wordt gedragen omvat schoonmakende agent in dampvorm die van het lichaam van schoonmakende agent wordt verworven. Een pijp wordt gekoppeld aan de tweede buis om druppeltjes van de schoonmakende agent te veroorzaken om op een eerste gezicht van het schoon te maken substraat te beïnvloeden.