A method of removing polishing residue from a substrate includes placing the substrate in a pressure chamber, pressurizing the pressure chamber, and maintaining the supercritical fluid in contact with the substrate until the polishing residue is removed from the substrate. Following removal of the polishing residue from the substrate, the pressure chamber is flushed and vented.

Une méthode d'enlever le résidu de polissage d'un substrat inclut placer le substrat dans une chambre de pression, pressuriser la chambre de pression, et maintenir le fluide supercritique en contact avec le substrat jusqu'à ce que le résidu de polissage soit enlevé du substrat. Après le déplacement du résidu de polissage du substrat, la chambre de pression est rincée et exhalée.