A method and apparatus for controlling beam emittance by placing a quadrupole lens array in a drift space of an illumination system component. The illumination system component may be an electron gun or a liner tube or drift tube, attachable to an electron gun. The quadrupole lens array may be three or more mesh grids or a combination of grids and continuous foils. The quadrupole lens array forms a multitude of microlenses resembling an optical "fly's eye" lens. The quadrupole lens array splits an incoming solid electron beam into a multitude of subbeams, such that the outgoing beam emittance is different from the incoming beam emittance, while beam total current remains unchanged. The method and apparatus permit independent control of beam current and beam emittance, which is beneficial in a SCALPEL illumination system.

Une méthode et un appareil pour l'emittance de contrôle de faisceau en plaçant une rangée quadripolaire d'objectif dans un espace de dérive d'un composant de système de flash. Le composant de système de flash peut être un pistolet d'électron ou un tube de recouvrement ou tube de dérive, connectable à un pistolet d'électron. La rangée quadripolaire d'objectif peut être trois grilles ou plus de maille ou une combinaison des grilles et des clinquants continus. La rangée quadripolaire d'objectif forme une multitude de microlenses ressemblant à l'objectif "de l'oeil d'une mouche optique". La rangée quadripolaire d'objectif coupe un faisceau d'électrons plein entrant en multitude de subbeams, tels que l'emittance sortant de faisceau est différent de l'emittance entrant de faisceau, alors que le courant total de faisceau demeure sans changement. La méthode et les appareils permettent la commande indépendante du courant de faisceau et de l'emittance de faisceau, qui est salutaire dans un système de flash de SCALPEL.