A resist peeling system includes a peeling solution tank for storing a resist peeling solution; an electric conductivity monitor for monitoring the electric conductivity of a resist peeling solution; and a additive components tank for estimating the components ratio in the resist peeling solution on the basis of the electric conductivity thereof and adding, when a component of the resist peeling solution is estimated to be insufficient on the basis of the estimated result, the component lacking for the resist peeling solution to the resist peeling solution by a suitable amount.

Una resistenza che sbuccia il sistema include un carro armato di sbucciatura della soluzione per la memorizzazione della resistenza che sbuccia la soluzione; un video elettrico di conducibilità per il controllo della conducibilità elettrica di una resistenza che sbuccia soluzione; e un carro armato cumulativo dei componenti per la valutazione del rapporto dei componenti nella resistenza che sbuccia soluzione in base alla conducibilità elettrica di ciò e che aggiunge, quando un componente della resistenza che sbuccia la soluzione è valutato per essere insufficiente in base al risultato valutato, il componente che difetta per la resistenza che sbuccia soluzione alla resistenza che sbuccia soluzione da un importo adatto.