A calcium fluoride crystal in which the light transparency does not deteriorate with consecutive irradiation by high output short wavelength light over long time periods. A calcium fluoride crystal in accordance with the present invention has an internal transmittance of 70% or more for light of a 135-nm wavelength or more. A calcium fluoride crystal contains any one of strontium, aluminum, silicon and magnesium, with the strontium content ranging from 1 ppm to 600 ppm, the aluminum content ranging from 1 ppm to 50 ppm, the silicon content ranging from 1 ppm to 50 ppm, or the magnesium content ranging from 1 ppm to 10 ppm. A calcium fluoride crystal has an internal transmittance of 70% or more for light of a 135-nm wavelength or more and contains 1 ppm or less of La and 10 ppm or less of Y. An optical system for an excimer laser in accordance with the present invention comprises a lens comprising any calcium fluoride crystal set forth above. An exposure apparatus for photo-lithography in accordance with the present invention comprises an optical System comprising the calcium fluoride crystal and a stage for holding a substrate to be exposed.

Ein Kalziumfluoridkristall, in dem das helle Transparent nicht mit nachfolgender Bestrahlung bis zum hohen Zeitabschnitten des Ausgang Kurzschlußwellenlängelichtüberschusses lang verschlechtert. Ein Kalziumfluoridkristall in Übereinstimmung mit der anwesenden Erfindung hat eine interne Beförderung 70% oder mehr für Licht einer Wellenlänge 135-135-nm oder mehr. Ein Kalziumfluoridkristall enthält irgendein von Strontium, von Aluminium, von Silikon und von Magnesium, mit dem zufriedenen Reichen des Strontiums von 1 PPMS bis zu 600 PPMS, dem Aluminiumgehalt, der von 1 PPMS bis zu 50 PPMS reichen, dem zufriedenen Reichen des Silikons von 1 PPMS bis zu 50 PPMS oder dem zufriedenen Reichen des Magnesiums von 1 PPMS bis zu 10 PPMS. Ein Kalziumfluoridkristall hat eine interne Beförderung 70% oder mehr für Licht einer Wellenlänge 135-135-nm oder mehr und enthält 1 PPMS oder kleiner von La und 10 PPMS oder kleiner von Y. Ein optisches System für einen excimer Laser in Übereinstimmung mit der anwesenden Erfindung enthält ein Objektiv, das jeden möglichen Kalziumfluoridkristall enthält, der oben festgelegt wird. Ein Belichtung Apparat für photolithographie in Übereinstimmung mit der anwesenden Erfindung enthält ein optisches System, das den Kalziumfluoridkristall und ein Stadium für das Halten eines herausgestellt zu werden enthält Substrates.