High purity tantalum metals and alloys containing the same are described. The tantalum metal preferably has a purity of at least 99.995% and more preferably at least 99.999%. In addition, tantalum metal and alloys thereof are described, which either have a grain size of about 50 microns or less, or a texture in which a (100) intensity within any 5% increment of thickness is less than about 15 random, or an incremental log ratio of (111):(100) intensity of greater than about -4.0, or any combination of these properties. Also described are articles and components made from the tantalum metal which include, but are not limited to, sputtering targets, capacitor cans, resistive film layers, wire, and the like. Also disclosed is a process for making the high purity metal which includes the step of reacting a salt-containing tantalum with at least one compound capable of reducing this salt to tantalum powder and a second salt in a reaction container. The reaction container or liner in the reaction container and the agitator or liner on the agitator are made from a metal material having the same or higher vapor pressure of melted tantalum. The high purity tantalum preferably has a fine and uniform microstructure.

I metalli e le leghe del tantalio di elevata purezza che contengono lo stesso sono descritti. Il metallo del tantalio ha preferibilmente una purezza almeno di 99.995% e preferibilmente almeno 99.999%. In più, il metallo del tantalio e le leghe di ciò sono descritti, che hanno un formato di grano di circa 50 micron o di meno, o una struttura in cui l'intensità di a (100) all'interno di tutto l'incremento di 5% di spessore è di meno che circa 15 casuali, o un rapporto incrementale del ceppo di intensità (111):(100) più notevolmente di circa -4.0, o qualunque combinazione di queste proprietà. Inoltre sono descritti gli articoli ed i componenti fatti dal metallo del tantalio che includono, ma non sono limitati a, obiettivi di polverizzazione, latte del condensatore, strati resistenti della pellicola, legare e simili. Inoltre è rilevato un procedimento per fare il metallo di elevata purezza che include il punto di reazione del tantalio contenente sale con almeno un residuo capace di ridurre questo sale alla polvere del tantalio e un secondo sale in un contenitore di reazione. Il contenitore o il rivestimento nel contenitore di reazione e l'agitatore o il rivestimento di reazione sull'agitatore sono fatti da un materiale del metallo che ha lo stesso o l'più alta pressione del vapore di tantalio fuso. Il tantalio di elevata purezza ha preferibilmente una microstruttura dell'uniforme e dell'indennità.