The invention relates to a method and device for improving the surface of a substrate. Plasma is produced by a luminous discharge, close to the substrate to be treated, using a hollow cathode and an anode assigned thereto. A reactive gas located in the area of the luminous discharge is activated, causing a change to occur on the surface of substrate to provide the desired improvement. The hollow cathode is brought to a self-cleansing temperature and maintained at said temperature, whereby the parasitic deposits caused by the reactive gas are removed and/or converted. The self-cleansing temperature is stabilized by taking into account the following factors: the heating of the hollow cathode by the luminous discharge, thermal conduction carried out by the reactive gas and radiation in the direction of a cooled anode arranged at a small distance from the hollow cathode.

L'invention concerne une méthode et un dispositif pour améliorer la surface d'un substrat. Le plasma est produit par une décharge lumineuse, près du substrat à traiter, à l'aide d'une cathode creuse et d'une anode assignées là-dessus. Un gaz réactif situé dans le domaine de la décharge lumineuse est activé, faisant produire un changement sur la surface du substrat pour fournir l'amélioration désirée. La cathode creuse est apportée à une température de art de l'auto-portrait-cleansing et maintenue à ladite température, par lequel les dépôts parasites provoqués par le gaz réactif soient enlevés et/ou convertis. La température de art de l'auto-portrait-cleansing est stabilisée en tenant compte des facteurs suivants : le chauffage de la cathode creuse par la décharge lumineuse, la conduction thermique effectuée par le gaz réactif et le rayonnement dans la direction d'une anode refroidie a arrangé à une petite distance de la cathode creuse.