A plurality of electrode bars are arranged in parallel with each other, and side electrode bars are connected to the corresponding opposite ends of the electrode bars, thereby forming a ladder-like RF discharge electrode. Power supply points are arranged axisymmetrically with respect to a reference line, which is a bisector which bisects one side of the RF discharge electrode, while being spaced a predetermined distance from the reference line, thereby suppressing voltage distribution on the ladder electrode, which has an effect on uniformity of discharge distribution, to a sufficiently low level of nonuniformity. Thus, uniform distribution of film deposition rate can be obtained, thereby enabling uniform deposition even in large-area applications.

Una pluralidad de barras del electrodo se arregla en paralelo a uno a, y las barras del electrodo del lado están conectadas con corresponder enfrente de los extremos de las barras del electrodo, de tal modo formando a escala-como el electrodo de la descarga del RF. Los puntos de la fuente de alimentación se arreglan axisymmetrically con respecto a una línea de referencia, que es un bisector que biseca un lado del electrodo de la descarga del RF, mientras que siendo espaciado una distancia predeterminada de la línea de referencia, de tal modo suprimiendo la distribución del voltaje en el electrodo de la escala, que tiene un efecto en la uniformidad de la distribución de la descarga, a un nivel suficientemente bajo del nonuniformity. Así, la distribución uniforme de la tarifa de la deposición de la película se puede obtener, de tal modo permitiendo la deposición uniforme incluso en usos del grande-a'rea.