A substantial comb-type lower electrode 11 is formed on a substrate 14, then a dielectric layer 13 is formed on the lower electrode 11, and then a substantial comb-type upper electrode 12 is formed on the dielectric layer 13. Respective element electrodes 16 (15) of one of the lower electrode 11 and the upper electrode 12 are arranged in blank areas between respective element electrodes 15 (16) of the other of the lower electrode 11 and the upper electrode 12.

Un peigne-type substantiel l'électrode inférieure 11 est formé sur un substrat 14, puis une couche diélectrique 13 est formée sur l'électrode inférieure 11, et alors un peigne-type substantiel l'électrode supérieure 12 est formé sur la couche diélectrique 13. Les électrodes respectives 16 d'élément (15) d'une de l'électrode inférieure 11 et l'électrode supérieure 12 sont arrangées dans des secteurs blancs entre les électrodes respectives 15 d'élément (16) de l'autre de l'électrode inférieure 11 et de l'électrode supérieure 12.

 
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