This invention is related to an active matrix liquid crystal display (AMLCD) or an X-ray imaging device having a high aperture ratio, and method of making same. The imager or display has an increased aperture ratio because electrodes are formed over dual insulating layers so as to overlap portions of the array address lines and/or TFTs. Both the manufacturability and capacitive crosstalk of the device are improved due to the use of a photo-imageable organic insulating layer between the pixel electrodes and the address lines. An intermediate inorganic insulating layer is provided between the photo-imageable organic insulating layer and the overlapped TFTs in order to prevent the organic insulating layer from directly contacting semiconductor material in the TFTs thereby reducing potential voltage swings.

Diese Erfindung hängt mit einer Flüssigkristallanzeige der aktiven Matrix (AMLCD) oder einer Röntgenstrahlbelichtung Vorrichtung, die ein hohes Blendenöffnung Verhältnis haben, und Produktionsmethode selben zusammen. Der Toner oder die Anzeige hat ein erhöhtes Blendenöffnung Verhältnis, weil Elektroden über Doppelisolierschichten gebildet werden, um sich mit Teilen der Reihe Adresse Linien und/oder des TFTs zu decken. liegt das manufacturability und das kapazitive Übersprechen der Vorrichtung am Gebrauch von einer Foto-imageable organischen Isolierschicht zwischen den Pixelelektroden und den Adresse Linien verbessertes. Eine anorganische Zwischenisolierschicht wird zwischen der Foto-imageable organischen Isolierschicht zur Verfügung gestellt und dem gedeckten TFTs, zwecks die organische Isolierschicht an mit Halbleitermaterial im TFTs direkt in Verbindung treten schwingt zu verhindern, das dadurch mögliche Spannung verringert.