Methods for forming a covalently bound monolayer on silicon surfaces comprising contacting a silicon substrate with an alkene or alkyne in the presence of a solvent-soluble Lewis acid, and porous silicon substrates having surfaces comprising covalently bound monolayers are provided.

Methoden für die Formung eines kovalent gesprungenen monomolekularen Films auf den Silikonoberflächen, die enthalten, mit einem Silikonsubstrat mit einem Alken oder einem Alkyn in Anwesenheit eines Lösungsmittel-löslichen Lewis-Säure in Verbindung tretend zur Verfügung gestellt, und die porösen Silikonsubstrate, die haben, Oberflächen kovalent gesprungene monomolekulare Filme zu enthalten, werden.