Disclosed is a composition which comprises a polymer containing at least some monomer repeat units with photosensitivity-imparting substituents which enable crosslinking or chain extension of the polymer upon exposure to actinic radiation, said polymer being of the formula ##STR1## wherein x is an interger of 0 or 1, A is one of several specified groups, such as ##STR2## B is one of several specified groups, such as ##STR3## or mixtures thereof, and n is an integer representing the number of repeating monomer units, wherein said photosensitivity-imparting substituents are allyl ether groups, epoxy groups, or mixtures thereof. Also disclosed are a process for preparing a thermal ink jet printhead containing the aforementioned polymers and processes for preparing the aforementioned polymers.

Gegeben ein Aufbau frei, der ein Polymer-Plastik enthält, das mindestens einige Monomerewiederholung Maßeinheiten mit photosensitivity-zuteilenden Substituenten enthält, die dem Querverbinden oder Kettenverlängerung des Polymer-Plastiks nach Aussetzung zur aktinischen Strahlung, das besagte Polymer-Plastik ermöglichen, das vom Formel ## STR1 ## ist, worin x ein interger von 0 oder von 1 ist, A ist eine einiger spezifizierter Gruppen, wie ## STR2 ## ist B eine einiger spezifizierter Gruppen, wie ## STR3 ## oder Mischungen davon, und n ist eine Ganzzahl, welche die Zahl des Wiederholens der Monomeremaßeinheiten darstellt, worin besagte photosensitivity-zuteilende Substituenten Allyläthergruppen, Epoxidgruppen oder Mischungen davon sind. Auch gegeben ein Prozeß für das Vorbereiten eines thermischen Tintenstrahl printhead frei, welches die vorher erwähnten Polymer-Plastiken enthält und Prozesse für das Vorbereiten der vorher erwähnten Polymer-Plastiken.