A photoresist binder composition comprising a homogeneous blend of (i) a hydroxystyrene copolymer comprising a first monomer that is optionally substituted hydroxystyrene and a second monomer containing an acid labile group, preferably pendant to the polymer backbone, and (ii) and a phenolic polymer, that is optionally partially or wholly protected, such as polyhydroxystyrene, poly(hydroxystyrene-co-styrene), poly(hydroxystyrene-co-styrene-co-t-butyl acrylate), novolac, and the like. Also provided is a lithographic resist composition comprising the homogeneous blend of the photoresist binder composition, and a radiation-sensitive acid generator which generates an acid upon exposure to radiation, and a process for using the resist composition to generate resist images on a substrate, such as in the manufacture of integrated circuits or the like.

Una composición de la carpeta del photoresist que abarca una mezcla homogénea (i) de un copolímero del hydroxystyrene que abarca un primer monomer que es opcionalmente hydroxystyrene substituido y segundo un monomer que contiene a un grupo labile ácido, preferiblemente pendiente a la espina dorsal del polímero, y (ii) y un polímero phenolic, que opcionalmente se protege parcialmente o enteramente, por ejemplo el polyhydroxystyrene, poly(hydroxystyrene-poly(hydroxystyrene-co-styrene)-styrene), acrylate poly(hydroxystyrene-co-estireno-co-t-buti'lico), novolac, y similares. También se proporciona un litográfico resiste la composición que abarca la mezcla homogénea de la composición de la carpeta del photoresist, y un generador ácido sensible a la radiación que genere un ácido sobre la exposición a la radiación, y un proceso para usar la composición del resistir para generar resiste imágenes en un substrato, por ejemplo en la fabricación de circuitos integrados o de los similares.