An information handling system, such as a disk drive, including a base, a disk stack rotatably attached to the base, and an actuator assembly movably attached to the base. The actuator assembly also includes a load spring and a slider attached to said load spring. The slider and load spring are attached to form a gimballing connection between the slider and the load spring. The slider includes an air-bearing surface which has a contact area. The slider also includes a transducer. The transducer is typically located near said contact area. The contact area includes a roughened surface portion and a smooth surface portion. The smooth surface portion is adjacent the transducer. The roughened surface portion is rougher than the smooth surface portion. The roughened surface portion is also rougher than the other surfaces associated with the air-bearing surface of the slider. The roughened surface portion of the contact area is formed by one of several techniques. One of the techniques uses a wet etch to remove at least one of the phases of a multi-phase material. Another technique defines the area to be roughened using photolithography. After exposing the photoresist using either a mask or a laser, a portion of photoresist is removed and the areas unprotected by photoresist are dry etched to form the roughened contact area.

Ένα διαχειριζόμενο σύστημα πληροφοριών, όπως μια κίνηση δίσκων, συμπεριλαμβανομένης μιας βάσης, ένας σωρός δίσκων που συνδέθηκαν περιστροφικά με τη βάση, και μια συνέλευση ενεργοποιητών συνδέθηκε movably με τη βάση. Η συνέλευση ενεργοποιητών περιλαμβάνει επίσης ένα ελατήριο φορτίων και έναν ολισθαίνοντα ρυθμιστή που συνδέονται με το εν λόγω ελατήριο φορτίων. Το ελατήριο ολισθαινόντων ρυθμιστών και φορτίων είναι συνημμένο για να διαμορφώσει μια gimballing σύνδεση μεταξύ του ολισθαίνοντος ρυθμιστή και του ελατηρίου φορτίων. Ο ολισθαίνων ρυθμιστής περιλαμβάνει μια αέρας-φέρουσα επιφάνεια που έχει μια περιοχή επαφών. Ο ολισθαίνων ρυθμιστής περιλαμβάνει επίσης έναν μετατροπέα. Ο μετατροπέας βρίσκεται χαρακτηριστικά κοντά στην εν λόγω περιοχή επαφών. Η περιοχή επαφών περιλαμβάνει μια τραχυμένη μερίδα επιφάνειας και μια ομαλή μερίδα επιφάνειας. Η ομαλή μερίδα επιφάνειας είναι δίπλα στο μετατροπέα. Η τραχυμένη μερίδα επιφάνειας είναι τραχύτερη από την ομαλή μερίδα επιφάνειας. Η τραχυμένη μερίδα επιφάνειας είναι επίσης τραχύτερη από τις άλλες επιφάνειες που συνδέονται με την αέρας-φέρουσα επιφάνεια του ολισθαίνοντος ρυθμιστή. Η τραχυμένη μερίδα επιφάνειας της περιοχής επαφών διαμορφώνεται από μια από διάφορες τεχνικές. Μια από τις τεχνικές χρησιμοποιεί έναν υγρό χαράζει για να αφαιρέσει τουλάχιστον μια από τις φάσεις ενός πολυφασικού υλικού. Μια άλλη τεχνική καθορίζει την περιοχή που τραχύνεται χρησιμοποιώντας τη φωτολιθογραφία. Μετά από να εκθέσει photoresist που χρησιμοποιεί είτε μια μάσκα είτε ένα λέιζερ, μια μερίδα photoresist αφαιρείται και οι περιοχές μη προστατευμέές από photoresist είναι ξηρές που χαράζονται για να διαμορφώσουν την τραχυμένη περιοχή επαφών.